质谱仪-Mass TDS热脱附质谱仪应用在半导体、面板、薄膜材料的氢气、水气、氧气超威量检测
ESCO开发的红外线加热式热脱附质谱仪(TDS1200Ⅱ)，是在超高真空中以程序方式加热样品时，用质谱仪观察脱附分子的光谱仪。由于测量是在真空中进行的，因此可以检测出极少量的水、氢气、氧气和二氧化碳等具有高背景的成分，可以识别和量化从样品中解吸的分子的化学种类。此外，还可以获得脱附气体的吸附/键合状态、扩散过程等信息。
全方位检测表面、薄膜-基板界面和基板中的氢(H , H2)和OH
氢在半导体中扮演着重要的角色，因此，控制氢含量非常重要。TDS优越的侦测能力，可以轻松检测相当于单分子层数量的氢。
水气会影响薄膜性能，水气的逸散因此控制水气含量在薄膜质量上扮演重要的角色，图中为三种不同制程的薄膜在程序升温中脱附出来的水，不同型态的水都可以被TDS侦测分析。。
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Si:H的含量、键结和分布被证明对部件质量Si:H至关重要。SiH的键结能和SiH2不同，因此可以被TDS区分出来。。
TDS被大量用于面板和半导体产业，以下的产业也会需要以TDS分析微量气体:
▶能源产业-锂电池
▶半导体产业-微机电系统(MEMS)、IC封装气体、铜互连电镀
▶面板产业-LED、LCD、FPD、OLED
▶金属冶炼产业-氢脆测试
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