X萤光-XRF XRF在RoHS检测时出现的元素干扰与排除方法【更新日期: 2022/11/23】

XRF目前已经是非常普遍的应用在RoHS的检测中，但实际上XRF的原理并不是每一个使用者都非常的清楚与了解，且RoHS 2.0规范中的电子医疗器材也将在2014年的7月正式实施，但实际上还是有许多人不清楚为什么XRF有时候检测会出现误差，这都是因为干扰或是判断错误所造成。

干扰的原因有非常多种，今天就介绍一种称之为逃离波峰的干扰状况，所谓逃离波峰是一种当XRF激发出元素的萤光射线，萤光射线在进到检测器时被检测器中的Si吸收了一些能量所产生的干扰，常发生在浓度较高元素中，会在该元素的能谱分析线往前大约1.74 keV的位置产生所谓的逃离波峰。

X射线撞击样品并产生元素特性射线
矽检测器表面的矽特性射线被激发出来，不被检测器接收
被激发出来的矽特性射线和进来的碰撞而发生能量损失
在某个元素(高浓度)的前面1.74 keV产生一个波峰

这次我们就来谈谈干扰的问题以及排除的方式，我们以Sn电镀液来进行分析看看
样品：Sn电镀液
干扰状况：Sn逃离波峰干扰Cd

一般的XRF在未进行任何设定前的检测Sn常会干扰到Cd，在金属的部分通常不太会有这问题，但在混测 or 电镀液时常会有这类的问题。

许多设备并没有办法有效的排除这样的问题干扰，或是根本不知道原来这是一种干扰所造成的误判状况，Hitachi的XRF系列有干扰判定的设定可以还原初始的能谱状况并协助判定是否为干扰。

Sn的定性能量位置Ka在25.22 keV，而Cd的定性能量位置Ka在23.13 keV，所以在这个地方会有一个小的干扰讯号产生，也因此当干扰过高时，在对Cd的Peak作面积的积分时就会有些微的影响。

当遇到这类的干扰问题时Hitachi系列的XRF有开放给使用者对于分析线进行切换的动作，将分析线从Cd Ka改换到Cd Kb就可以有效的排除这样的干扰问题，而有些XRF设备并没有办法排除这类的干扰问题，时常有误判的可能性。