X-ray荧光-XRF Hitachi EA1400表面金属工艺技术分析–化学镀镍厚膜与XRF分析应用
金属涂层在多样产品中提供卓越的表面性能，其在众多任务业领域中皆具关键地位。这些涂层不仅能有效保护基材，提供耐用且抗腐蚀之屏障，更能极大程度降低金属产品的磨耗程度。同时，金属涂层亦能够提升导电性、扭矩抗力以及可焊性等功能特性。对于涂层的成分和厚度进行严格的质量控制则呈不可或缺的重要性，正是透过此措施能够确保涂层完美呈现所需性能及其耐用性。
▲图一 硬币表面被覆盖上一层特定的金属或合金，以增加硬币的耐用性、外观和防止氧化
化学镀镍（Electroless Nickel plating, 简称ENP）
则是一种重要的自催化化学工艺，适用于在基材上镀覆一层镍磷（Ni-P）合金涂层。镍磷涂层之厚度通常介于1µm至40µm，具体值则视乎不同之应用需求而定。该化学镀镍涂层得以呈现不同磷含量，而此特性将影响其相应之冶金性能。磷含量范围通常介于2%至15%之间。低磷镍涂层具备的优点在于其能确保复杂零件的内外层厚度均衡，而高磷含量的涂层则能够满足对于耐腐蚀性和延展性极具挑战性的工业应用。
▲图二 拥有良好的均镀能力与极低的孔隙率为化学镀镍的两大特色
Hitachi EA1400
作为一项先进的技术，能够为金属涂层的严格质量控制提供可靠的解决方案。藉助X射线荧光（XRF）膜厚分析，EA1400能够准确地确定材料的元素组成。在金属涂层的应用中，XRF分析能够同步测量涂层的厚度和成分，这项技术为众多具有挑战性的涂层测量需求提供了高效且精确的解决方案。对于化学镀镍涂层的严格质量控制而言，Hitachi EA1400专业的膜厚分析为一极有效的方法。透过经国际认证的膜厚参考标准品进行精准校准，提供其卓越的分析精确性和卓越的膜厚再现性。
▲图三 Hitachi EA1400的专业膜厚镀层分析模式，可依据客户需求状况建立对应标准曲线
Hitachi EA1400严谨的分析控制(检量线)确保化学镀镍磷涂层在各项应用中均能达到所期望的性能标准，从而提高产品的耐用性和可信赖性，从而实现对涂层性能的综合质量控制。这项精密的分析技术不仅能够揭示涂层的物理特性，还能对其化学组成进行细致解析，从而深入了解涂层的性能和可靠性。经过测试分析，可确保磷含量的高度精确性与再现性，并为涂层的制定和优化提供可靠的数据基础。
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| ▲图四 左图为标准品，右图为三重复测试结果，清晰呈现了Hitachi EA1400的出色精密再现性 | |
化学镀镍在广泛领域扮演着关键角色，提供保护及功能增强。具多样性的化学镀镍涂层，适应各种需求。然而，Hitachi EA1400技术透过X射线荧光分析，精确确定成分和厚度，其在质量控制上的重要性不可忽视。结合成分分析和膜厚分析功能，提升涂层性能与稳定性。Hitachi EA的XRF先进技术革命性地推动涂层技术，为工业界带来持续革新的可能。
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