X-ray荧光-XRF Hitachi EA1400有效控管无卤素，让客户不再焦「氯」
Hitachi EA1400有效控管无卤素，让客户不再焦「氯」
卤素常用在阻燃剂、增塑剂、着色剂等，并添加在PCB、缆绳导线、电子零件、包装材料等，但它在燃烧时会释放腐蚀性气体等，不止对人体健康有害，也会破坏臭氧层，因此才有限量使用卤素的法规，称为「无卤规范（Halogen Free）」，厂商被要求限制产品中所含的聚氯乙烯 (PVC) 及溴系阻燃剂 (BFRs) 。目前主要参考国际电工委员会IEC 61249-2-21之法规限制，如下：
如今，无卤规范已经行之有年，与欧盟RoHS皆为厂商必遵守的法规，但无卤素相较于RoHS的重金属检测，卤素中的氯(Cl)属于较轻元素，因此对于XRF荧光元素分析仪较难精确有效定量检测，并极易受到大气环境及样品中不同成分元素背景干扰。为使氯(Cl)的检测更精准可靠，日立Hitachi EA1400 XRF有以下特点着重应对：
▲EA1400波峰底部之间几乎无重迭，更好判断元素的存在；EA1000AIII波峰底部之间重迭较多，对元素间干扰影响较大。
▲相较于前一代设备，EA1400对氯(Cl)的检测下限降低了6倍，来到了个位数。
▲Hitachi XRF EA1400桌上型荧光分析仪
| 限用有害物质 | 每一均值材料限值 |
| 氯（Cl） | <900ppm |
| 溴（Br） | <900ppm |
| 氯+溴（CI+Br） | <1,500ppm |
如今，无卤规范已经行之有年，与欧盟RoHS皆为厂商必遵守的法规，但无卤素相较于RoHS的重金属检测，卤素中的氯(Cl)属于较轻元素，因此对于XRF荧光元素分析仪较难精确有效定量检测，并极易受到大气环境及样品中不同成分元素背景干扰。为使氯(Cl)的检测更精准可靠，日立Hitachi EA1400 XRF有以下特点着重应对：
- 采业界高感度的【串行式SDD检测器】
| 新一代EA1400 | 前一代EA1000AIII |
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| 氯(Cl)检测下限 | ||
| 前一代EA1000AIII | 新一代EA1400 | |
| PE | 33ppm | 5.3ppm |
| PVC | —— | —— |
- DPD图谱分离技术（Digital Peak Decomposition）
自动排除相邻元素互相干扰波峰的情况，如PCB内常见的铑(Rh)、钯(Pd)、银(Ag)的能量位置就与氯(Cl)较为接近，可藉由此功能排除干扰并让波峰独立计算，大幅降低邻间元素干扰，更有效精准控管微量分析。(注：DPD技术在RoHS及Halogen Free模式均适用)
| 无DPD技术 | 有DPD技术 |
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▲DPD图谱分离技术可协助使用者更好精确自动计算正确的元素成分，避免邻间元素干扰。
- 选配真空帮浦功能
将样品室的空气抽出后再进行检测，可降低大气中的氩气(Ar)对氯(Cl)浓度的干扰。
(注：氯(Cl)元素的能量较低，检测上容易因空气的干扰而损失原有强度，且和氩气分析线相邻，波峰容易互相干扰及重迭，造成浓度跳动大或无法判断的情况 ; 同时真空环境对于轻元素镁(Mg), 铝(Al), 硅(Si), 磷(P), 硫(S)有更好更优异的分析感度效果。)
同时，科迈斯的Hitachi EA XRF系列所服务之客户，也可针对公司内部的个别需求进行调整，甚至少数客户在意的硫(S)、锡(Sn)、锑(Sb)、磷(P)也可进行客制化建立检量线。
(注：氯(Cl)元素的能量较低，检测上容易因空气的干扰而损失原有强度，且和氩气分析线相邻，波峰容易互相干扰及重迭，造成浓度跳动大或无法判断的情况 ; 同时真空环境对于轻元素镁(Mg), 铝(Al), 硅(Si), 磷(P), 硫(S)有更好更优异的分析感度效果。)
同时，科迈斯的Hitachi EA XRF系列所服务之客户，也可针对公司内部的个别需求进行调整，甚至少数客户在意的硫(S)、锡(Sn)、锑(Sb)、磷(P)也可进行客制化建立检量线。
▲Hitachi XRF EA1400桌上型荧光分析仪
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