X萤光-XRF XRF光管电压与电流在实际测试上的差异

XRF是目前针对材料中的元素成分分析的一种常用设备，一般普遍的应用有；RoHS分析、无卤素分析、金属合金分析、土壤重金属分析、玩具中的铅含量分析、矿物土壤的成分分析…等，只要是需要分析元素成分的比例、含量都可以透过XRF进行分析比对。

而目前XRF的使用者大多不清楚X光管对于检测的重要性，以及在使用上到底应该如何调整测试条件已达到良好的分析效果，接下来就说明XRF在使用上需要注意的地方。

首先XRF针对的元素进行分析，而判断的方式是透过能量位置进行定性（详细XRF原理，请参考” RoHS检测设备XRF的技术原理”），所以当我们需要激发目标元素时，我们一般需要调整到该元素分析能量的1.​​5~2倍电压，如下图一所示：

图一 Cd元素分析能量

Cd元素的分析能量位置为Ka 23.108 keV，Kb 26.084keV，而建议的激发电压约为元素能量的1.​​5~2倍，所以不管是40kV or 50kV对于Cd的分析都可以执行，由图二可以知道当我们使用15kV的电压去激发能量位置超过10keV，基本上已经无明显的效果，所以对于元素分析时电压的选择也是一门很重要的学问。
而电流对于我们在分析时的差别在哪?一般而言光管电流决定元素的激发强度，同一个样品分别使用100uA & 1000uA的电流时，激发出来的讯号强度明显有落差(如下图三)，当使用高电流时可以有效的将讯号的强度增强，对于高浓度的样品可以有明显的效果，相同的对于低浓度的分析更是有极大的帮助。

图三 100uA与1000uA的强度差异

由此可知，电压决定元素检测的范围及可否有效的激发目标元素；而电流则是决定元素的激发强度及可否检测到低浓度的元素讯号，未来在分析时更可以有效的透过调整电压电流去微调一些测试分析的精准度。