金属膜厚分析仪 产品型号：FT150
分为三项規格：FT150、FT150L、FT150H
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FT150
伴随光学系的升级，实现相比以往机型更高的灵敏度
对应nm级Au镀层及数十nm Pd镀层测量效率提升2倍以上
FT150L
对应600 mm×600 mm 大型线路板
配备防X射线泄漏的封闭结构样品室
FT150H
对应微区Sn、Ag等镀层测量
对应陶瓷电子组件端子、Sn-Ag无铅焊锡等
FT150配备新型聚光光学系和更高规格的Vortex检测器，能够得到比以往机型更高强度的X射线荧光。
相比以往机型（FT9500X系列），对应微小金属镀层测量的效率提高2倍以上，在相同的测量时间下能够提高其测量精度。
实现高精度并且高效的测量。 -
项目 描述 X射线照射方向 上方照射式 上方照射式 Al (13) ~ U(92) 测定环境 大气 Ｘ射线发生部 45kV, 钼Mo 靶材 设计 毛细管聚焦Poly-capillary 管电流 最大1000μA 可变 X射线检测部 Silicon Drift Detector (SDD) 测定面积 φ0.030mm(FWHM 0.017mm) 最大样品面积 长400mm、宽300mm、高200mm 电动XY样品台驱动 移动范围 400×300mm CCD Camera 1百万相数 对焦模式 雷射自动对焦 测量模式 Thin Film FP (5层, 10元素)/检量线法 选配 FT150H : 钨W target
FT150L : 钼Mo target
